重庆两江新区半导体工业园项目落户两江新区水土高新园，位于方正大道与云汉大道西北交汇处，占地377亩，总修建面积约44万平方米。两江半导体工业园定位为中国西部半导体生长新引擎、重庆半导体工业创新树模基地。未来将被打造成一个以半导体工业为焦点，ＩＣ设计为重点，辐射汽车电子、人工智能、物联网、智能终端等工业，承载公共服务平台、工业创新孵化、研发设计总部、工业应用延伸等功效的特色园区。园区产物类型富厚，除了企业总部独栋、多层尺度厂房、高层研发楼、地标修建研发楼外，还将依托政府搭建一个可知足ＩＣ设计企业流片、封装测试等需求于一体的半导体工业公共服务平台，以知足IC设计类企业的需求。